然而中芯国际也依旧受限,局势不容乐观

日期:2020-05-30 22:24:46 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:641

美方限制华为芯片的代加工,很多人想到了中芯国际身上。然而中芯国际也依旧受限。中芯国际是否采用了美方的技术或者是关键设备零部件?答案是肯定。芯片的制造离不开光刻机的应用,而我国自主生产的光刻机仅能达到28nm的水平。中芯国际现在代工14nm的芯片是依托于进口荷兰ASML公司的光刻机。

然而中芯国际也依旧受限,局势不容乐观(图1)

而AMSL公司的光刻机制造并不是自己的独立研发,而是技术的整合与使用。其中的核心技术以及关键的部件是来自于世界多个国家,而作为技术与制造水平位居世界前列的美国是怎么也绕不开的。很早以前中芯国际就从AMSL订购了一批光刻机并预付了定金。而到目前为止都没有收到货,AMSL方面也没有任何发货的意向,对此的解释是由于目前的形式,以及本国的运输。但是其中有没有一部分人的影子我们不得而知。

然而中芯国际也依旧受限,局势不容乐观(图2)

在早前,华为受到限制无法与美国企业合作。还可以采取备胎方案,替代部分零部件。也尝试与别国半导体行业合作,绕开美国。而在限制进一步升级的情况下,这一计划无法实行。只要有美国技术和设备的使用,你就必须得经过美方批准。如果中芯国际生产海思芯片,也有相当大可能被限制。同时,也将失去AMSL的售后保障。势必会对自身的造成较大影响。

然而中芯国际也依旧受限,局势不容乐观(图3)

在事件发生以前,中国可以依托全球产业链,来整合外国零配件形成自己的产品。而此事一出,则打破了这一格局。这也是对我国科技领域敲响了警钟。如果做不到拥有科技自主权,就会时时刻刻有被“卡脖子”的风险受制于人。唯一解决的办法就是自主创新,要不然人为刀俎我为鱼肉的事情一定会发生。这一过程势必漫长而艰辛,但却是国产企业发展的必由之路。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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